[发明专利]在铜酞菁合成中应用的耐氧化单组份芳烃溶剂无效
| 申请号： | 03111203.X | 申请日： | 2003-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN1532175A | 公开（公告）日： | 2004-09-29 |
| 发明（设计）人： | 赵维绳;汪维凤 | 申请（专利权）人： | 赵维绳 |
| 主分类号： | C07C15/02 | 分类号： | C07C15/02;C07D487/22;C09B47/04 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人： | 许宗富;周秀梅 |
| 地址： | 110021辽宁省沈阳*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及芳烃溶剂，特别是在铜酞菁合成中应用的耐氧化单组份芳烃溶剂，其结构通式如下，式中：R′＝CH3或C2H5，m＝1～3，R＝C4H9；其特征在于：作为反应介质时沸点为200℃～220℃，密度0.86～0.89，折射率1.5060～1.5080。其优点为：环境友好，无毒；应用效果好；铜酞菁收率高；纯度高；溶剂耐氧化性好，连续套用五次后其性能不变；用此铜酞菁经酸溶法制得的C.I.颜料蓝15(酞菁蓝B)强度100％，色光纯正。 | ||
| 搜索关键词： | 铜酞菁 合成 应用 氧化 单组份 芳烃 溶剂 | ||
【主权项】：
1.在铜酞菁合成中应用的耐氧化单组份芳烃溶剂，结构通式如下，![]()
式中：R′＝CH3或C2H5，m＝1～3，R＝C4H9；其特征在于：作为反应介质时沸点为200～220℃，密度0.86～0.89，折射率1.5060～1.5080。
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