[发明专利]离子注入制备光学晶体的脊形光波导的方法无效
| 申请号： | 03111919.0 | 申请日： | 2003-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN1438500A | 公开（公告）日： | 2003-08-27 |
| 发明（设计）人： | 王雪林;陈峰;付刚;张建华;王克明 | 申请（专利权）人： | 山东大学 |
| 主分类号： | G02B6/13 | 分类号： | G02B6/13;G02B6/136 |
| 代理公司： | 济南三达专利事务所 | 代理人： | 孙君 |
| 地址： | 250100 *** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明是利用离子注入制备光学晶体的脊形光波导的方法，该方法离子注入、光刻胶掩膜制备和Ar离子束刻蚀。采用能量为2.0－5.0MeV的离子注入到光学晶体的表面，在形成的平面光波导上制备掩膜，用Ar离子束进行刻蚀，能够在光学晶体表面形成脊形光波导；用氧离子和硅离子等注入铌酸锂和偏硼酸钡等非线性光学晶体能够形成增加型的脊形光波导；用氦离子或者氢离子注入多数光学晶体能够形成位垒型脊形光波导。所形成的脊形光波导可以保持较好的非线性光学特性。脊形光波导的厚度、脊背的宽度、深度以及导波模式可以由工艺参数控制。采用本发明可以制作光开关、光调制器等光电子器件。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 制备 光学 晶体 脊形光 波导 方法 | ||
【主权项】：
1.一种离子注入制备光学晶体的脊形光波导的方法，该制备方法包含：离子注入光学晶体、晶体表面光刻胶掩膜的制备和晶体表面的Ar离子束刻蚀。其特征在于用一定能量和剂量的离子注入到光学晶体表面，在晶体中形成平面光波导，然后在光学晶体形成的平面光波导上制备掩膜，最后进行氩(Ar)离子束刻蚀平面光波导，形成脊形光波导。
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