[发明专利]双光子引发剂及其合成方法与微加工技术无效
| 申请号： | 03112445.3 | 申请日： | 2003-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN1472203A | 公开（公告）日： | 2004-02-04 |
| 发明（设计）人： | 蒋民华;杨家祥;陶绪堂;田玉鹏;任燕;赵显;于晓强 | 申请（专利权）人： | 山东大学 |
| 主分类号： | C07D209/56 | 分类号： | C07D209/56;C07D279/18;C08F2/50 |
| 代理公司： | 济南三达专利事务所 | 代理人： | 孙君 |
| 地址： | 250100*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 双光子引发剂及其合成方法与微加工技术，属于化学技术领域。双光子引发剂含咔唑、吩噻嗪或联苯二烯系列衍生物的有机化合物，具有强双光子吸收效应。合成方法是用室温固相法，通过研磨、水洗和醇洗获得产物。双光子引发剂的微加工技术，在单体双酚A环氧丙烯酸酯中加入0.5％的双光子引发剂，利用超声波让其扩散均匀，然后涂抹到石英晶片上制成薄膜。本发明用室温固相法合成了系列双光子引发剂，这些化合物具有较好的光化学性质，反应容易，操作方便，后处理简单，具有环境友好的特点。通过双光子吸收聚合，加工了微米量级的微结构。 | ||
| 搜索关键词： | 光子 引发 及其 合成 方法 加工 技术 | ||
【主权项】：
1.双光子引发剂，其特征在于，具有D-π-A、D-π-D或A-π-A构造的含咔唑、吩噻嗪或联苯二烯系列衍生物的有机化合物，具有强双光子吸收效应，D是给电子基团，π是共轭体系，A是吸电子基团。
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