[发明专利]基于离焦深度分析的光学投影系统物面调整方法和装置有效

专利信息
申请号: 03115193.0 申请日: 2003-01-23
公开(公告)号: CN1431556A 公开(公告)日: 2003-07-23
发明(设计)人: 冯华君;徐之海;李奇 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G03B21/53 分类号: G03B21/53;G02B27/62;G06T1/00;G02B27/18
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 代理人: 张法高
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基于离焦深度分析的光学投影系统物面调整方法和装置。基于离焦深度分析的光学投影系统物面调整方法是:投影光学系统的投影屏上安装有多个CCD图像采集组件以获取图像,通过对图像的分析,获得光学投影系统物面LCD的离焦量、水平方向倾斜量、垂直方向倾斜量、旋转量和三块LCD的相对位置偏差,给出调整参数。本发明的优点:1)、调整准确性高(包括对焦、套色、调倾斜、调旋转等),不受操作人员主观因素的影响,精度均有控制系统保证;2)、调整速度快,18个自由度的调整量均一次性给出,适合大规模生产需要;3)、操作简单,操作者不需要很多的经验。
搜索关键词: 基于 焦深 分析 光学 投影 系统 调整 方法 装置
【主权项】:
1.一种基于离焦深度分析的光学投影系统物面调整方法,其特征在于:投影光学系统的投影屏上安装有多个CCD图像采集组件以获取图像,通过对图像的分析,获得光学投影系统物面LCD的离焦量、水平方向倾斜量、垂直方向倾斜量、旋转量和三块LCD的相对位置偏差,给出调整参数。
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