[发明专利]位相保密器及其制造方法无效

专利信息
申请号: 03115587.1 申请日: 2003-02-28
公开(公告)号: CN1438516A 公开(公告)日: 2003-08-27
发明(设计)人: 周常河;戴恩文;刘立人 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G02B27/28 分类号: G02B27/28;G02B5/30;G02B27/50;G09F3/02
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 张泽纯
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种位相保密器及其制造方法,该位相保密器,其特征在于按激光前进方向依次包括:单色平面激光光源、差值位相板、位相板插槽、透镜、CCD探测器,该插槽具有多个插口,可供多块位相板插置,该CCD探测器的输出通过一比较控制电路与一控制开关相连。本发明位相保密器具有成本低,保密性好的优点。
搜索关键词: 位相 保密 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种位相保密器,其特征在于按激光前进方向依次包括:单色平面激光光源(1)、差值位相板(2)、位相板插槽(3)、透镜(4)、CCD探测器(5),该插槽(3)具有多个插口,可供多块位相板(31)插置,该CCD探测器(5)的输出通过一比较控制电路(6)与一控制开关(7)相连。
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