[发明专利]一种抗辐射屏蔽方法无效
申请号: | 03115691.6 | 申请日: | 2003-03-07 |
公开(公告)号: | CN1446730A | 公开(公告)日: | 2003-10-08 |
发明(设计)人: | 王传珊;徐加强;蓝增瑞;信太林;王秀霞;沈嵘康 | 申请(专利权)人: | 上海大学;上海卫星工程研究所 |
主分类号: | B64G1/54 | 分类号: | B64G1/54 |
代理公司: | 上海上大专利事务所 | 代理人: | 王正 |
地址: | 20007*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种抗辐射屏蔽方法,属防辐射材料处理方法及相关防辐射屏蔽技术领域。在航天器外壳固有屏蔽材料铝或铝镁合金壳层涂以重金属材料,其特征在于与传统涂层的方式不同,涂层不是涂在壳层的表面,而是涂在壳层的背面或内部,即在铝或铝镁合金外壳层的背面或内部涂上一层一定厚度的重金属钨和具有抗辐射性能的高分子粘结剂的混合粉末层,也即高原子序数金属掺杂层;然后再涂上一层一定厚度的低原子序数金属掺杂层。 | ||
搜索关键词: | 一种 辐射 屏蔽 方法 | ||
【主权项】:
1.一种抗辐射屏蔽方法,在航天器或飞行器外壳固有屏蔽材料铝或铝镁合金壳层涂以重金属材料,其特征在于与传统涂层的方式不同,涂层不是涂在壳层的表面,而是涂在壳层的背面或内部,即在铝或铝镁合金外壳层的背面或内部涂上一层一定厚度的重金属钨和具有抗辐射性能的高分子粘结剂,如聚氨酯、聚醚醚酮的混合粉末层,也即高原子序数金属掺杂层;然后再涂上一层一定厚度的低原子序数金属掺杂层。
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