[发明专利]使用聚焦离子束的化学汽相沉积的光罩图案化方法有效
| 申请号： | 03115764.5 | 申请日： | 2003-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN1530460A | 公开（公告）日： | 2004-09-22 |
| 发明（设计）人： | 陈新晋 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/04 | 分类号： | C23C16/04 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 陈亮 |
| 地址： | 2012*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种形成光罩图案的方法，包括：提供一石英基底，使用聚焦离子束及一有机气体以将碳沉积于该石英基底上而形成光罩图案，在一实施例中，所使用的离子束为镓离子束，而该有机气体是碳氢气体(carbon－hydrogen gas)或嵌二萘(pyrene)气体。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 聚焦 离子束 化学 沉积 图案 方法 | ||
【主权项】：
1、一种形成光罩图案的方法，包括：提供一石英基底，使用聚焦离子束及一有机气体以沉积光罩图案于该石英基底上。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
