[发明专利]高亮度空间相干X射线源无效
申请号: | 03115809.9 | 申请日: | 2003-03-14 |
公开(公告)号: | CN1441441A | 公开(公告)日: | 2003-09-10 |
发明(设计)人: | 韩申生;喻虹;高琛;罗震林 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G21G4/04 | 分类号: | G21G4/04 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: |
一种高亮度空间相干X射线源,包括处于一防辐射外壳内的X光光源和X射线空间相干增益腔,其特点是:所述的X光光源由电子束激发X光光源和毛细管X光聚焦透镜组成,毛细管X光聚焦透镜设置于电子束激发X光光源的出射窗口处;该X射线空间相干增益腔的入口处设有入射限孔光阑,该入射限孔光阑位于该毛细管X光透镜的后焦点处;该电子束激发X光光源、毛细管X光透镜、空间相干增益腔的入射限孔光阑和出射窗口同轴;该X射线空间相干增益腔的出射窗口的孔径D出大于入射限孔光阑的孔径D入;D入的选取范围是:1微米 |
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搜索关键词: | 亮度 空间 相干 射线 | ||
【主权项】:
1、一种高亮度空间相干X射线源,包括处于一防辐射外壳(4)内的X光光源(1)和X射线空间相干增益腔(2),其特征在于:所述的X光光源(1)由电子束激发X光光源(5)和毛细管X光聚焦透镜(6)组成,毛细管X光聚焦透镜(6)设置在电子束激发X光光源(5)的出射窗口(501)处;所述X射线空间相干增益腔(2)的入口处设有入射限孔光阑(201),该入射限孔光阑(201)位于毛细管X光透镜(6)的后焦点处;所述的电子束激发X光光源(5)、毛细管X光透镜(6)、空间相干增益腔(2)的入射限孔光阑(201)和出射窗口(202)同轴;所述X射线空间相干增益腔(2)的出射窗口(202)的孔径D出大于入射限孔光阑(201)的孔径D入;该入射限孔光阑(201)的通光孔径D入的选取范围为:1微米<D入<30微米。
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