[发明专利]高亮度空间相干X射线源无效

专利信息
申请号: 03115809.9 申请日: 2003-03-14
公开(公告)号: CN1441441A 公开(公告)日: 2003-09-10
发明(设计)人: 韩申生;喻虹;高琛;罗震林 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G21G4/04 分类号: G21G4/04
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 张泽纯
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种高亮度空间相干X射线源,包括处于一防辐射外壳内的X光光源和X射线空间相干增益腔,其特点是:所述的X光光源由电子束激发X光光源和毛细管X光聚焦透镜组成,毛细管X光聚焦透镜设置于电子束激发X光光源的出射窗口处;该X射线空间相干增益腔的入口处设有入射限孔光阑,该入射限孔光阑位于该毛细管X光透镜的后焦点处;该电子束激发X光光源、毛细管X光透镜、空间相干增益腔的入射限孔光阑和出射窗口同轴;该X射线空间相干增益腔的出射窗口的孔径D出大于入射限孔光阑的孔径D入;D入的选取范围是:1微米发明高亮度空间相干X射线源,具有普遍适用、高相干性、高亮度、低成本、体积小和稳定性好的特点。
搜索关键词: 亮度 空间 相干 射线
【主权项】:
1、一种高亮度空间相干X射线源,包括处于一防辐射外壳(4)内的X光光源(1)和X射线空间相干增益腔(2),其特征在于:所述的X光光源(1)由电子束激发X光光源(5)和毛细管X光聚焦透镜(6)组成,毛细管X光聚焦透镜(6)设置在电子束激发X光光源(5)的出射窗口(501)处;所述X射线空间相干增益腔(2)的入口处设有入射限孔光阑(201),该入射限孔光阑(201)位于毛细管X光透镜(6)的后焦点处;所述的电子束激发X光光源(5)、毛细管X光透镜(6)、空间相干增益腔(2)的入射限孔光阑(201)和出射窗口(202)同轴;所述X射线空间相干增益腔(2)的出射窗口(202)的孔径D出大于入射限孔光阑(201)的孔径D入;该入射限孔光阑(201)的通光孔径D入的选取范围为:1微米<D入<30微米。
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