[发明专利]太赫兹波二维电光面阵成像方法无效

专利信息
申请号: 03116029.8 申请日: 2003-03-27
公开(公告)号: CN1445529A 公开(公告)日: 2003-10-01
发明(设计)人: 顾春明;刘锐 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: G01N21/35 分类号: G01N21/35;G01N21/17
代理公司: 上海交达专利事务所 代理人: 王锡麟
地址: 200030*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种太赫兹波二维电光面阵成像方法属于探测技术领域。本发明通过构建二维电光面阵成像系统,用二维面阵电光晶体探测器取代现有的单块状探测器,在探测部分后面放置一光学检偏器,取出对应于每个二维面阵电光晶体探测器上的被成像物体调制后的光信号,再经电荷耦合器件成像于电子显示屏上,完成二维电光面阵成像过程。本发明能够直接探测二维的太赫兹波信号,然后利用CCD进行二维成像,有着很高的时间分辨率和比较好的空间分辨率、信噪比,是采集有着广泛应用前景和价值的太赫兹波的一种新的方法,它的意义在于实现了从逐点扫描采集信号、空间分辨率不高的二维成像到时间和空间分辨率较好的二维面阵成像的一个飞跃。
搜索关键词: 赫兹 二维 光面 成像 方法
【主权项】:
1、一种太赫兹波二维电光面阵成像方法,其特征在于:通过构建二维电光面阵成像系统,用二维面阵电光晶体探测器取代现有的单块状探测器,在探测部分后面放置一光学检偏器,取出对应于每个二维面阵电光晶体探测器上的被成像物体调制后的光信号,再经电荷耦合器件成像于电子显示屏上,完成二维电光面阵成像过程。
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