[发明专利]真空蒸鍍线状掩膜的掩膜板无效

专利信息
申请号: 03116759.4 申请日: 2003-05-06
公开(公告)号: CN1450196A 公开(公告)日: 2003-10-22
发明(设计)人: 钟国柱;张志林 申请(专利权)人: 上海航天上大欧德科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/34
代理公司: 上海开祺专利代理有限公司 代理人: 李兰英
地址: 200072 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种真空蒸镀线状掩膜的掩膜板,适用于电致发光元件的有机薄膜彩色条和金属薄膜电极的制备。它主要含有带切口的固定框架,置放在固定框架相对平行两框外侧的带定位槽和顶紧螺丝的定位柱。弹性丝通过定位柱上定位槽的定位绕成平直线组构成掩膜线。掩膜线能够通过调节两端的固定螺钉使其拉紧拉直。能够随时调节顶紧螺丝使全部掩膜线绷紧绷直。本发明的掩膜板完全克服了在先技术中存在的掩膜线松塌后,不能再使其绷紧绷直等缺陷。提高了掩膜板的精度、使用率和寿命。
搜索关键词: 真空 线状 掩膜板
【主权项】:
1,一种真空蒸鍍线状掩膜的掩膜板,含有固定框架(3)和弹性线(4),其特征在于固定框架(3)含有切口(8),在固定框架(3)相对平行的两框外侧分别置有结构、形状和大小完全相同的两个定位柱(2、6),定位柱(2、6)上带有相互平行的等间距的定位槽(2602)和分布在定位柱(2、6)两端的顶紧螺丝(1),在固定框架(3)上还分布有固定螺钉(5)和压紧螺钉(11),弹性线(4)通过两定位柱(2、6)上的定位槽(2602)定位缠绕成平直线组构成掩膜线(7)。
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