[发明专利]电子照相多层薄膜及其制造方法以及一种成像方法无效
| 申请号： | 03119183.5 | 申请日： | 2003-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN1467572A | 公开（公告）日： | 2004-01-14 |
| 发明（设计）人： | 小林智雄;樱井邦夫;乌越薰 | 申请（专利权）人： | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号： | G03G7/00 | 分类号： | G03G7/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种电子照像多层薄膜，在没有对传统电子照像设备进行重大改良的时候进行层压的膜，可以在相对低的温度下软化的膜上直接印刷高分辨率的文字，并且即使在室外使用也可以形成一种高质量可以清晰辨认的，具有充足的抗热性和抗光性的图像，并且本发明还涉及一种制造这种膜的方法以及使用这种膜成像的方法。在电子照像多层薄膜中，基体的至少一个表面上的表面电阻为108～1013Ω/□，维卡软化温度为70～130℃。 | ||
| 搜索关键词： | 电子 照相 多层 薄膜 及其 制造 方法 以及 一种 成像 | ||
【主权项】：
1.一种包含一个基体的电子照相多层薄膜，其特征在于所述基体的至少一个表面的表面电阻在108～1013Ω/□范围内，并且所述基体的维卡软化温度在70～130℃范围内。
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