[发明专利]曝光方法及曝光装置

摘要

提供一种曝光方法及曝光装置，是在一面补正像特性一面扫描曝光时，通过进行良好精度的补正可使图案以良好精度重叠于所定的位置关系，能进行精度良好的曝光处理。解决手段，在一面使光罩(M)与感光基板(P)以同步移动一面经介投影光学系统(PL1～PL5)使光罩(M)的图案投影于感光基板(P)的曝光装置(EX)，包括补正机构、驱动装置及控制装置，其中，补正机构设置在投影光学系统(PL1～PL5)，使投影于感光基板的图案的像特性加以补正，驱动装置驱动补正机构，控制装置按照同步移动速度在驱动装置加以设定驱动速度及驱动量之中的至少一方。

主权项

1.一种曝光方法，是在一面使一光罩与一基板以同步移动一面经介一投影光学系统使该光罩的一图案曝光于该基板的曝光方法，其特征在于，由设置在该投影光学系统的一补正机构加以补正投影于该基板的该图案的一像位置同时，按照该同步移动速度加以设定补正该像位置的一补正速度或一补正量。