[发明专利]有机EL阵列曝光头等光印写头、其制作方法及使用该写头的图像形成装置无效
申请号: | 03119572.5 | 申请日: | 2003-03-11 |
公开(公告)号: | CN1444105A | 公开(公告)日: | 2003-09-24 |
发明(设计)人: | 关秀也;米洼政敏 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G03G15/04 | 分类号: | G03G15/04;H05B33/12;G03G15/01;G02B3/00 |
代理公司: | 北京东方亿思专利代理有限责任公司 | 代理人: | 经志强 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种小型、工作距离长、串扰少的有机EL阵列曝光头等光印写头、其制作方法及使用其的图像形成装置,该光印写头将来自有机EL阵列等发光元件阵列的发光部2的调制光束或透过光闸元件阵列的光闸部2的调制光束投射到载像体11上,在载像体11上形成规定的图案,该光印写头是在与发光元件阵列的各个发光部2或光闸元件阵列的各个光闸部2对应的对齐位置上配置球形透镜10而成。 | ||
搜索关键词: | 有机 el 阵列 曝光 头等 光印写头 制作方法 使用 图像 形成 装置 | ||
【主权项】:
1、一种光印写头,将从发光元件阵列的发光部来的调制光束或透过光闸元件阵列的光闸部的调制光束投射到载像体上,在载像体上形成规定的图案,其特征在于,在与上述发光元件阵列的各个发光部或上述光闸元件阵列的各个光闸部对应的对齐位置上配置球形透镜。
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