[发明专利]氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法在审
| 申请号： | 03119818.X | 申请日： | 1997-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN1524917A | 公开（公告）日： | 2004-09-01 |
| 发明（设计）人： | 吉田诚人;芦泽寅之助;寺崎裕树;仓田靖;松泽纯;丹野清仁;大槻裕人 | 申请（专利权）人： | 日立化成工业株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郝庆芬 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及氧化铈研磨剂及基板的研磨方法，提供了一种能够在不划伤SiO2绝缘膜等被研磨面的高研磨速度下进行研磨的氧化铈研磨剂。本发明的研磨剂含有把氧化铈颗粒分散于介质中的浆料，其中该氧化铈颗粒的一次颗粒粒径为10～600纳米，一次颗粒粒径中央值为30～250纳米，颗粒粒径中央值为150～600纳米，颗粒最大粒径在3000纳米以下。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 研磨剂 以及 研磨 方法 | ||
【主权项】：
1.含有把氧化铈颗粒分散于含有聚丙烯酸铵的水中而制成的浆料的氧化铈研磨剂。
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