[发明专利]氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法无效
| 申请号： | 03119819.8 | 申请日： | 1997-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN1526786A | 公开（公告）日： | 2004-09-08 |
| 发明（设计）人： | 吉田诚人;芦泽寅之助;寺崎裕树;仓田靖;松泽纯;丹野清仁;大槻裕人 | 申请（专利权）人： | 日立化成工业株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郝庆芬 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及氧化铈研磨剂及基板的研磨方法，提供了一种能够在不划伤SiO2绝缘膜等被研磨面的高研磨速度下进行研磨的氧化铈研磨剂。本发明的研磨剂含有把氧化铈颗粒分散于介质中的浆料，其中该氧化铈颗粒的一次颗粒粒径为10～600纳米，一次颗粒粒径中央值为30～250纳米，颗粒粒径中央值为150～600纳米，颗粒最大粒径在3000纳米以下。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 研磨剂 以及 研磨 方法 | ||
【主权项】：
1.一种氧化铈研磨剂，含有把氧化铈颗粒分散在介质中的浆料，该氧化铈颗粒通过粉末X射线Rietvelt法以RIETAN-94分析测定的表示各向同性的微小形变的结构参数Y值在0.01～0.70，其中所述氧化铈颗粒粒径中央值为150～600纳米。
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