[发明专利]图案光刻胶的微缩制造过程

摘要

一种图案光刻胶的微缩制造过程，包括：提供一半导体衬底，其上具有一光刻胶层；藉由一光学光刻工序形成多个具有第一线宽的图案光刻胶于半导体衬底上；进行一酸化工序以形成一具有酸性物质的扩散层于多个图案光刻胶上；进行一再烘烤工序以使扩散层内的酸性物质扩散至多个图案光刻胶中，同时使得酸性物质与位于其扩散深度内的多个图案光刻胶进行一链锁反应以形成多个化学反应层于多个图案光刻胶的表层中，其中，多个图案光刻胶中的酸性物质的扩散深度是取决于酸化工序的酸性物质的扩散速率；以及进行一再显影工序以去除多个化学反应层并形成多个具有第二线宽的图案光刻胶于半导体衬底上。其中上述的所有工序是藉由原位反应的方式进行的。

主权项

1.一种图案光刻胶的微缩方法，其特征在于，至少包含下列步骤：提供一半导体衬底，其上具有一第一线宽的一图案光刻胶；藉由一化学物质以形成一化学扩散层于该图案光刻胶上；扩散该化学扩散层内的该化学物质至该图案光刻胶中，使得该图案光刻胶与该化学物质进行一化学反应以形成一化学反应层于该图案光刻胶的表层中；与移除该化学反应层以修正该半导体衬底上的该图案光刻胶的第一线宽而成一第二线宽。