[发明专利]曝光方法及装置无效
| 申请号： | 03120289.6 | 申请日： | 2003-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN1445611A | 公开（公告）日： | 2003-10-01 |
| 发明（设计）人： | 辻川晋;谷口幸夫;山口弘高;松村正清 | 申请（专利权）人： | 株式会社液晶先端技术开发中心 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 | 代理人： | 徐申民 |
| 地址： | 日本国神奈*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的，是在于将用以支持屏蔽以及感光材所需的空间更为缩小。本发明的曝光方法包括：使来自曝光用光源的光的至少一部分，入射到支持于支持装置的前述屏蔽的入射步骤；以及引导来自前述屏蔽的反射光，使其成像在支持于前述支持装置的前述感光材，从与光源的光入射到前述屏蔽的入射方向不同的方向接收该反射光的成像步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光方法，是使曝光用屏蔽的图案曝光于感光材的方法，其特征在于，包括：使来自曝光用光源的光的至少一部分，入射至支持于支持装置的前述屏蔽的入射步骤；以及引导来自前述屏蔽的反射光从与光源的光入射于前述屏蔽的入射方向不同的方向接收该反射光，而在支持于前述支持装置的前述感光材成像的成像步骤。
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