[发明专利]抗反射构件无效
| 申请号： | 03120628.X | 申请日： | 2003-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN1447134A | 公开（公告）日： | 2003-10-08 |
| 发明（设计）人： | 山下博司;前纳良昭 | 申请（专利权）人： | 三洋电机株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;G02B1/10;B29D11/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 谷惠敏,关兆辉 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的是，通过使抗反射处理和基片成型同时进行，以低成本提供稳定且低反射率的抗反射构件。本发明在透光性基片1的表面形成由微细的锥状突起10的连续图形组成的凹凸面，所述凹凸面相对于可见光构成0次衍射面，同时所述凹凸面的图形以模具图形的70％以上的复制率形成。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 构件 | ||
【主权项】：
1.一种抗反射构件，其特征在于，在透光性基片的表面形成由微细的锥状连续图形组成的凹凸面，所述凹凸面相对于可见光构成0次衍射面，同时所述凹凸面的图形以模具图形的70％以上的复制率形成。
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