[发明专利]光学元件气隙制造方法无效
| 申请号： | 03120773.1 | 申请日： | 2003-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN1532573A | 公开（公告）日： | 2004-09-29 |
| 发明（设计）人： | 张绍雄;张世勋 | 申请（专利权）人： | 台达电子工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B7/18 | 分类号： | G02B7/18;G02B17/02 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 戈泊;程伟 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光学元件间的气隙制造方法，包含以下步骤：制备两个光学元件；在其中一个光学元件的表面周边形成至少两个间隙部分，其间隙部分彼此隔开；涂覆粘着剂于每两个间隙部分之间；由粘着剂接合二光学元件；以及固化粘着剂。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学元件之间的气隙制造方法，其特征在于包含以下步骤：制备两个光学元件；在其中一个光学元件的一个表面周边形成至少两个间隙部分，其中该至少两个间隙部分彼此完全隔开；在每两个间隙部分之间涂覆一粘着剂；由该粘着剂粘合该二光学元件；固化该粘着剂。
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