[发明专利]光信息记录介质及其制造方法无效

专利信息
申请号: 03120780.4 申请日: 2003-03-19
公开(公告)号: CN1445769A 公开(公告)日: 2003-10-01
发明(设计)人: 末永正志;高桥裕介 申请(专利权)人: 日立麦克赛尔株式会社
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24;G11B7/26
代理公司: 北京银龙专利代理有限公司 代理人: 徐川
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及光信息记录介质及其制造方法,以及光信息记录介质的基板制造用的压模及其制造方法,提供一种记录再生特性和线槽特性优良、具有内光道信息坑的光信息记录介质及其制造方法,而且还提供一种制造上记光信息记录介质用的压模及其制造方法。本发明的光信息记录介质,由于在具有平坦底面的光道中配置具有平坦底面的内光道信息坑,所以与在光道中形成宽阔部分和狭窄部分的光信息记录介质相比,能够使在形成含有机染料记录层的光道部分内记录层与反射层间界面高度位置与内光道信息坑部分内记录层与反射层间界面高度位置的位置差增大,因而能以高调制度和低抖动再生记录在内光道信息坑内的信息。
搜索关键词: 信息 记录 介质 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种光信息记录介质,其包括在一面上形成有台、有平坦底面的光道和有平坦底面的内光道信息坑的基板,在该基板的该一面上形成的含有机染料的记录层,和在该记录层上形成的反射层,其特征在于:当用dg表示上记基板的台表面至上记光道底面的深度,用dp表示上记基板的台表面至上记内光道信息坑底面的深度,用Tg表示从上记台表面上的记录层与反射层间界面至上记光道中记录层与反射层间界面的记录层凹坑深度,用Tp表示从上记台表面上的记录层与反射层间界面至上记内光道信息坑中记录层与反射层间界面的记录层凹坑深度时,有dp/dg<Tp/Tg。
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