[发明专利]一种提高半导体制造业废气净化效率的方法有效
| 申请号： | 03120791.X | 申请日： | 2003-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN1531992A | 公开（公告）日： | 2004-09-29 |
| 发明（设计）人： | 冯五良 | 申请（专利权）人： | 东服企业有限公司 |
| 主分类号： | B01D53/74 | 分类号： | B01D53/74 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种提高半导体制造业废气净化效率的方法，主要是在废气处理槽内的废气出口端强制喷注供给热空气，该热空气在出口端具有最佳热温度，直接将废气中的有害物质彻底净化，以提高半导体制造业废气的净化效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 半导体 制造业 废气 净化 效率 方法 | ||
【主权项】：
1、一种提高半导体制造业废气净化效率的方法，包括在废气处理槽的废气出口端强制喷注供给热空气，该热空气直接喷袭自废气出口端排入废气处理槽内的废气中，用以热分解废气中有害物质。
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