[发明专利]带电构件的再生方法、带电构件与带电构件的再生装置有效

专利信息
申请号: 03121234.4 申请日: 2003-03-28
公开(公告)号: CN1484087A 公开(公告)日: 2004-03-24
发明(设计)人: 斋藤新一郎;室伏利昭;古贺一成 申请(专利权)人: 富士全录株式会社
主分类号: G03B15/16 分类号: G03B15/16;G03B21/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 王学强
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种使经表面洗净后阻抗值无法充分降低而无法回复必要的带电能力的带电构件能够轻易的再次使用的带电构件的再生方法、带电构件与带电构件的再生装置。一种挤压被带电体表面使上述被带电体带电的电子照相用带电构件与带电构件的再生装置,其特征为,具有对带电构件进行加热处理的加热处理工艺。
搜索关键词: 带电 构件 再生 方法 装置
【主权项】:
1.一种带电构件的再生方法,为挤压一被带电体表面使该被带电体带电的电子照相用带电构件的再生方法,其特征为,包括对该带电构件进行加热处理的一加热处理工艺。
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