[发明专利]投影光学系统、其制造方法、曝光装置及曝光方法无效
| 申请号： | 03121915.2 | 申请日： | 2003-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN1453642A | 公开（公告）日： | 2003-11-05 |
| 发明（设计）人： | 大村泰弘 | 申请（专利权）人： | 尼康株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/03;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种投影光学系统，将第一面(R)的影像形成在第二面(W)上。投影光学系统具备以属于立方晶系的结晶材料所形成的至少两个结晶穿透部材。至少两个结晶穿透部材的结晶轴[111]、结晶轴[100]以及结晶轴[110]中的任何一个结晶轴与光轴间的角度偏差设定在1度以下。萤石透镜的光轴与预定结晶轴之间的角度偏差抑止在预定的容许范围内，投影光学系统在实质上便不会受到萤石双折射的影响，并且可以确保良好的光学性能。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 光学系统 制造 方法 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种投影光学系统，用以将第一面的像形成于第二面上，其特征是，该投影光学系统包括：以属于立方晶系的结晶材料所形成的至少两个结晶穿透部材，该至少两个结晶穿透部材的结晶轴[111]、结晶轴[100]与结晶轴[110]中的任何一个结晶轴与光轴间的角度偏移，以及该至少两个结晶穿透部材的预定结晶轴的光轴旋转的相对旋转角度的预定值的角度偏移，两者中的任何一个设定在1度以下。
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