[发明专利]成膜装置及成膜方法无效
| 申请号： | 03122058.4 | 申请日： | 2003-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN1453391A | 公开（公告）日： | 2003-11-05 |
| 发明（设计）人： | 石仓淳理;龟山诚;斎藤康行 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种超微粒子膜制造装置及使用超微粒子的膜形成方法，使用电弧加热来形成超微粒子，无论是否施加电弧电压都可以将生成的超微粒子高效率地吸入到运送管中，获得稳定的膜。通过电弧加热进行蒸发，将构成超微粒子的蒸发材料(8)连接设置在一个电极上，同时作为另一个电极在前端区域设置多个带有放电部的棒(17)，配置各棒(17)，使得对蒸发材料(8)的方向分别朝向不同的方向。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种成膜装置，通过第1电极和第2电极的电位差来产生电弧放电，通过该电弧放电使材料蒸发，由该蒸发的材料形成粒子，通过使该粒子碰撞基体而进行成膜，所述材料电连接设置在所述第2电极上，所述第1电极有多个子电极，其中，所述多个子电极的各自前端的面对所述材料的方向分别配置成不同的方向。
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