[发明专利]制程装置中金属污染与微粒子的检测方法无效
| 申请号： | 03122159.9 | 申请日： | 2003-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN1540327A | 公开（公告）日： | 2004-10-27 |
| 发明（设计）人： | 俞文光;黄良田 | 申请（专利权）人： | 旺宏电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223;G01N1/28;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种制程装置中金属污染与微粒子的检测方法，此方法提供一控片，将控片置于欲检测的制程装置中，并以此制程装置对控片进行处理，接着在此控片上形成硅材料层，然后测量已形成硅材料层的控片上的粒子与缺陷数目，即可得知此制程装置中金属污染与微粒子污染的程度。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 金属 污染 微粒子 检测 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制程装置中金属污染与微粒子的检测方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：提供一控片；将该控片传送至一制程装置中，并以该制程装置对该控片进行处理；从该制程装置中取出该控片；于该控片上形成硅材料层；以及测量已形成该硅材料层的该控片上的粒子与缺陷数目。
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