[发明专利]具有照度偏光控制的光罩

摘要

本发明公开了一种具有照度偏光控制的光罩，包括基底、穿透控制层与反射层。在半导体集成电路工艺中，此光罩可用来将已沉积的光阻层图案化，且尤其是在将具有各种结构密度的光阻层图案化特别有用。此情况下的光罩上具有与之相对应的图案。此光罩可借着穿透控制层厚度的调整来补偿光罩上结构密度的差异。光罩上结构密度较低的区域，其光强度较高；而结构密度较高的区域，其光强度较低。因此，光罩上结构密度较低的区域比结构密度较高的区域具有较厚的穿透控制层。

主权项

1.一种具有照度偏光控制的光罩，包括：一基底；一穿透控制层，形成于该基底上，其中在该穿透控制层的一第一区域的一第一厚度大于一第二区域的一第二厚度；一图案化反射层，形成于该穿透控制层上。