[发明专利]用于防止光学检查中错误检测的系统和方法无效

专利信息
申请号: 03122580.2 申请日: 2003-04-21
公开(公告)号: CN1472528A 公开(公告)日: 2004-02-04
发明(设计)人: 崔铉镐;柳根洪;炳铉镐 申请(专利权)人: 崔铉镐
主分类号: G01N21/84 分类号: G01N21/84;G01N21/86;G01N21/88
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 张天舒;顾红霞
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明在此公开了一种用于防止光学检查中错误检测的系统和方法,防止由落在基底图案引线上或引线间的杂质、灰尘等等引起的错误检测,基底是用在制造各种半导体集成电路(ICs)中的主要部件部分。该方法包括如下步骤,如果在图案的透射光图象中检测到可疑短路部分和/或可疑突起,通过将图案的透射光图象与图案的参考图象进行比较,以及通过检查反射光图象中具有图案引线间可疑短路部分和/或图案引线可疑突起的可疑部分,来确定图案是否有缺陷。
搜索关键词: 用于 防止 光学 检查 错误 检测 系统 方法
【主权项】:
1.一种防止在光学检查具有微小图案的基底中错误检测的方法,包括下列步骤:如果在图案的透射光图象中检测到可疑短路部分和/或可疑突起,通过将图案的透射光图象与图案的参考图象进行比较,并检查反射光图象中具有图案引线间可疑短路部分和/或图案引线可疑突起的可疑部分,来确定图案是否有缺陷。
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