[发明专利]在曝光对位制造工艺中去除彩色光阻的方法无效
| 申请号： | 03123482.8 | 申请日： | 2003-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN1549060A | 公开（公告）日： | 2004-11-24 |
| 发明（设计）人： | 郑其铭 | 申请（专利权）人： | 统宝光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/00;G02F1/136;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 马高平;杨梧 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种在曝光对位制造工艺中去除彩色光阻的方法，包括下列步骤：提供一具有对准标记的基板；形成一彩色光阻于该具有对准标记的基板上；利用一双重管中的内管输送一溶剂使其附着在欲去除的彩色光阻区域而溶解该彩色光阻；以及利用该双重管中的外管以吸真空的方式，去除已被溶解的彩色光阻而暴露出上述对准标记。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 对位 制造 工艺 去除 彩色 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在曝光对位制造工艺中去除彩色光阻的方法，包括下列步骤：提供一具有对准标记的基板；形成一彩色光阻于该具有对准标记的基板上；利用一溶剂附着在欲去除的彩色光阻区域而溶解该彩色光阻；以及利用吸真空的方式，去除已被溶解的彩色光阻而露出上述对准标记。
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