[发明专利]金属掩模板

摘要

本发明是金属掩模板，它由基板加上表面或下表面或上下表面图形相同的铬和金或铜或银或铝金属薄层图形构成，借助光照射具有微细图形结构金属掩模板产生波长很短的等离子波，穿过纳米图形孔和缝传播性质，使一般波长或长波长光穿过纳米金属掩模进行光刻。克服了现有铬掩模版的纳米图形制作技术复杂，同时又由于受衍射极限的限制，不能被一般波长或长波长光穿过，无法进行光刻的缺点。用193－1000nm波长激光照明，也可光刻制作出纳米量级的图形。

主权项

1、金属掩模板，制作有铬掩模图形薄层(2)，其特征在于：所述的铬掩模图形薄层(2)是制作在厚度大于1μm的sio2薄膜或基板(3)上，在铬掩模图形薄层(2)的上面还作有图形相同的金属掩模图形薄层(1)，金属掩模图形簿层(1)的金属材料是金或银或铜或铝，其厚度为5-150nm，铬掩模图形薄层(2)的厚度为5-150nm。