[发明专利]投影曝光装置、位置对准装置以及位置对准方法

摘要

一种可进行精确位置对准的投影曝光装置。印刷电路板76置于移动平台70上的状态下，由紫外线照明装置6的紫外线光源60照射掩模标记90时，掩模标记90的像通过投影曝光透镜71与半反射镜11，以紫外线反射面镜10反射，再通过分光器34与成像透镜32，成像于CCD30上，并由图像识别装置2对其中心坐标做计测。其次，由红外线照明装置5的红外线光源50照射印刷电路板标记91，标记91的像通过紫外线反射面镜10、半反射镜11、分光器34、反射镜43、成像透镜42以及分光器52，成像于CCD40上。对应于紫外线用的CCD30上的掩模标记90的中心坐标，使红外线用CCD40上的印刷电路板标记91的中心坐标吻合，控制移动机构81，使移动平台70在XY及θ方向旋转移动而做位置对准。

主权项

1.一种投影曝光装置，包括：掩模(75)，描绘有电路图案；平台(70)，支持对该掩模(75)的图案做曝光之曝光对象(76)；位置对准装置(81)，用于通过移动所述掩模(75)或平台(70)、或者二者来调整所述掩模(75)和所述曝光对象(76)之间的位置关系；光学投影系统(71)，利用曝光波长将该掩模(75)之图案相对于曝光对象(76)予以放大/缩小的曝光；掩模标记(90)，设于所述掩模(75)上，用于位置对准；曝光对象标记(91)，设于所述曝光对象(76)上，用于位置对准；掩模标记光源(60)，用和曝光波长相同的波长的光照射所述掩模标记(90)；对象标记光源(50)，用与曝光波长相异的第二波长的光照射所述对象标记(91)；曝光波长反射体(10)，设于该光学投影系统(71)与该曝光对象(76)之间，并反射与该曝光波长同一波长的光，且使与曝光波长相异的第二波长光透过；掩模标记摄影装置(3)，通过该曝光波长反射体(10)所反射的光对该掩模标记(90)进行摄影；对象标记摄影装置(4)，对由穿透该曝光波长反射体(10)的该第二波长的光所照射的对象标记(91)进行摄影；以及控制装置(80)，根据该被摄影之掩模标记(90)和对象标记(91)，通过控制该位置对准装置(81)把该掩模(75)与曝光对象(76)对准。