[发明专利]光干涉式显示单元的制造方法无效
申请号: | 03123781.9 | 申请日: | 2003-05-20 |
公开(公告)号: | CN1549039A | 公开(公告)日: | 2004-11-24 |
发明(设计)人: | 林文坚;蔡熊光 | 申请(专利权)人: | 元太科技工业股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/21 | 分类号: | G02F1/21;G02F1/03;G02F1/07;G02B26/06;G03F7/00;H01L21/3205 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 潘培坤;楼仙英 |
地址: | 台湾*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种光干涉式显示面板的结构及其制造方法,所述制造方法是依序形成第一电极与牺牲层在基材之上,再在电极与牺牲层中形成开口。接着,在牺牲层上旋涂一光阻层并填满开口。以一微影制造工序图案化光阻层而定义出支撑物及支撑物的支撑臂的长短。在牺牲层及支撑物上方形成第二电极,一热制造工序使支撑臂因应力而产生位移,以改变第一电极与第二电极间的距离。最后,移除牺牲层而得到光干涉式显示单元。 | ||
搜索关键词: | 干涉 显示 单元 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光干涉式显示单元的制造方法,适用于一基材上,该方法至少包含:形成一第一电极于该基材之上;形成一牺牲层于该第一电极上;形成至少二开口于牺牲层及该第一电极之内并定义出该光干涉式显示单元的位置;形成一支柱于每一该开口内并同时在该支柱上形成至少一支撑臂,其中该支柱及该支撑臂形成一支撑物;形成一第二电极于该牺牲层及该支撑臂之上;一热制程处理该支撑物;以及移除该牺牲层。
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