[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效

专利信息
申请号: 03124367.3 申请日: 2003-02-10
公开(公告)号: CN1448789A 公开(公告)日: 2003-10-15
发明(设计)人: R·J·M·德乔赫 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/20;G06K15/12;G06T11/20;H01L21/027;H01L21/68
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 章社杲
地址: 荷兰维尔*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种对装置中的可移动部件(MT,MA;WT,W),以改善对部件上的偏离部件的质量中心的点(Cs)的位置和速度的控制。确定给该部件的质量中心提供该部件上的点需要的加速度所需要的作用力。该沿着给定方向的作用力按照与点在正交方向的速度和关于和这两个正交方向垂直的轴的角速度的乘积成比例的量进行矫正。
搜索关键词: 光刻 装置 器件 制造 方法
【主权项】:
1.一种器件制造方法,包括以下步骤:提供一至少部分覆盖一层辐射敏感材料的基底;利用辐射系统提供辐射投射光束;利用图案化装置来使投射光束的横截面具有图案;在该层辐射敏感材料的靶部上投射带图案的辐射光束;以及在部件的一个点上沿第一和第二正交方向执行所需的线性加速度,以及关于和所述第一及第二方向垂直的轴的角加速度;其中执行所需的线性加速度和角加速度的步骤包括以下步骤:确定在所述部件的质量中心上执行所需的加速度所需要的定位力;确定矫正力,该矫正力是沿着所述第二方向的,并具有与所述部件上的所述点沿着第一方向的速度以及所述部件关于和第一及第二方向垂直的所述轴的角速度成比例的幅度;以及向部件的质量中心施加定位力和矫正力的合力
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