[发明专利]确定性磁射流精整加工方法及装置无效
| 申请号： | 03124557.9 | 申请日： | 2003-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN1470360A | 公开（公告）日： | 2004-01-28 |
| 发明（设计）人： | 戴一帆;李圣怡;彭小强;郑子文 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科学技术大学 |
| 主分类号： | B24C5/08 | 分类号： | B24C5/08 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所 | 代理人： | 傅俏梅 |
| 地址： | 410073湖南省长沙市*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 一种确定性磁射流精整加工方法，其特征在于工件和用于喷射磁流变液使其形成射流之喷嘴置于数控平台上，喷嘴外面设磁场，通过控制工件空间运动的位置以及喷嘴周围磁场的方向和大小，以控制磁流变液的流变特性，从而控制磁流变液粘度和射流角度，使之形成各向异性的液体介质，对工件进行精整加工。本发明装置包括y轴、v轴、x轴、z轴和u轴组成的五坐标数控平台，工件置于y轴上，v轴上方设有喷嘴和与其相连之u轴，喷嘴外面装有可控电磁线圈，z轴与u轴相连，同时与x轴相连。本发明结合射流技术和磁流变液粘度可控特性，通过控制磁流变液射流角度和外磁流变液粘度，可保证抛光模具有理想稳定的去除函数，实现了光学零件的确定量研抛加工。 | ||
| 搜索关键词： | 确定性 射流 加工 方法 装置 | ||
【主权项】：
1、一种确定性磁射流精整加工方法，其特征在于它包括数控平台，工件和用于喷射磁流变液使其形成射流之喷嘴置于数控平台上，喷嘴外面设磁场，通过控制工件空间运动的位置以及喷嘴周围磁场的方向和大小，以控制磁流变液的流变特性，从而控制磁流变液粘度和射流角度，使之形成各向异性的液体介质，对工件进行精整加工。
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