[发明专利]光电扩散膜的制造方法无效
| 申请号： | 03124664.8 | 申请日： | 2003-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN1570675A | 公开（公告）日： | 2005-01-26 |
| 发明（设计）人： | 杨允斌 | 申请（专利权）人： | 杨允斌 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02;G02B1/04;G02F1/13357 |
| 代理公司： | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 | 代理人： | 马强 |
| 地址： | 台湾省桃源县*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明为光电扩散膜的制造方法，其工艺步骤为：a.将透明或半透明基材架于涂布机台上；b.将扩散膜配料装入该涂布机台中；c.将该扩散膜配料涂布于该基材正面以形成该扩散膜出光面；d.将该扩散膜置于恒温恒湿架进行干燥；e.对该基材反面重复步骤a至d以形成该扩散膜的入光面。所述扩散膜一种配料是用5μ以下玻璃珠或压克力珠加入扩散原料与PET系硬化剂胶融合调配。采用本发明方法制得的光电扩散膜具有材料密度均匀的特点，相对现有技术还降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光电 扩散 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光电扩散膜的制造方法，包括下列步骤：a.将透明或半透明基材架于涂布机台上；b.将扩散膜配料装入该涂布机台中；c.将该扩散膜配料涂布于该基材正面以形成该扩散膜出光面；d.将该扩散膜置于恒温恒湿架进行干燥；及e.对该基材反面重复步骤a至d以形成该扩散膜的入光面。
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