[发明专利]使用荧光分析仪的水处理控制系统有效

专利信息
申请号: 03124937.X 申请日: 2001-11-30
公开(公告)号: CN1495130A 公开(公告)日: 2004-05-12
发明(设计)人: 村山清一;黑川太;金子政雄;居安巨太郎;田口健二;久保贵惠;环省二郎;平本昭;林巧;海贺信好 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: C02F1/00 分类号: C02F1/00;C02F1/44;G01N23/223
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 沈昭坤
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 使用荧光分析仪的水处理控制系统包括具有活性炭注入部分(4a)的活性炭注入设备,和在活性炭注入部分(4a)的上游侧设置的荧光分析仪(7)和流水流量计(6)。根据荧光分析仪(7)的测定值,活性炭注入率演算装置(8)求出降低三卤甲烷生成能力需要的活性炭注入率。根据该活性炭注入率和流水流量计(6)的测定值,由活性炭注入量控制装置(9)对活性炭注入部分(4a)控制活性炭注入量。
搜索关键词: 使用 荧光 分析 水处理 控制系统
【主权项】:
1.一种使用荧光分析仪的水处理控制系统,其特征是具有分离去除被处理水中混浊物成分的膜滤装置、测定被处理水相对荧光强度的荧光分析仪、和根据荧光分析仪的测定值进行控制膜装置运行的膜滤运行控制装置。
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