[发明专利]一种半导体产品可靠性的测量方法有效

专利信息
申请号: 03126494.8 申请日: 2003-09-29
公开(公告)号: CN1604296A 公开(公告)日: 2005-04-06
发明(设计)人: 刘传玺 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;G01R31/26
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 王占梅
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种半导体产品可靠性的测量方法。该方法是将一半导体芯片置于一强制温度(stress temperature)的环境内以一测量时间并施加一强制电压(stress voltage),然后量测该半导体芯片上的MOS晶体管的起始电压(threshold voltage)变化值,以建立一组实验数据。最后利用该组实验数据以及一起始电压变化值(ΔVth)与时间(t)的关系模型以描绘该MOS晶体管起始电压变化值的关系曲线。
搜索关键词: 一种 半导体 产品 可靠性 测量方法
【主权项】:
1、一种半导体产品可靠性的测量方法,该方法包含有下列步骤:提供一半导体芯片,该半导体芯片上包含多个金属氧化半导体晶体管;于一测量时间内将该半导体芯片置于一强制温度的环境下,同时对该MOS晶体管施加一强制电压;于该测量时间内定义多个量测时间点,并且于各该量测时间点量测该MOS晶体管的起始电压变化值,以建立一组实验数据;提供一起始电压变化值ΔVth与时间t的关系模型;以及利用该组实验数据以及该关系模型描绘一关系曲线以预测该MOS晶体管于超过该测量时间长度时表现的起始电压变化值。
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