[发明专利]场致发光片及其制备方法无效

专利信息
申请号: 03126615.0 申请日: 2003-05-14
公开(公告)号: CN1452441A 公开(公告)日: 2003-10-29
发明(设计)人: 向黔新;董侠;成弘 申请(专利权)人: 振华集团深圳电子有限公司
主分类号: H05B33/12 分类号: H05B33/12;H05B33/10
代理公司: 深圳市中知专利代理有限责任公司 代理人: 孙皓
地址: 518031 广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种场致发光片及其制备方法,要解决的技术问题是要解决的技术问题是提高场致发光片的亮度、发光均匀性和机械强度。采用一下技术方案:一种场致发光片,在它的薄膜基片的一面涂覆有透明导电层、发光层、介电层、背电极层,最外层是覆被封装膜,薄膜基片的另一面也有覆被封装膜,所述透明导电层中铺设有金属电极层。制造步骤:洗涤金属丝;铺设金属电极;印刷透明导电层;印刷发光层;铺设金属电极;印刷导电层;制备一层覆被封装膜。与现有技术相比,制作的发光器件发光均匀,尺寸大小不受限制,可以任意剪裁成各种形状,显著改善面电极的方阻分布的均匀性,提高发光片的亮度和发光均匀性,也便于制造大尺寸发光片和发光带。
搜索关键词: 发光 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种场致发光片,在它的薄膜基片的一面涂覆有透明导电层、发光层、介电层、背电极层,最外层是覆被封装膜,薄膜基片的另一面也有覆被封装膜,其特征在于:所述透明导电层中铺设有金属电极层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于振华集团深圳电子有限公司,未经振华集团深圳电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03126615.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top