[发明专利]提高化学增强光致抗蚀剂分辨率的方法无效
| 申请号： | 03127442.0 | 申请日： | 2003-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN1504833A | 公开（公告）日： | 2004-06-16 |
| 发明（设计）人： | 李伟健;吴宗禧 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26;G03F7/32;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 赵仁临;张平元 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种提高化学增强光致抗蚀剂分辨率的方法，此方法包括：在基片上形成化学增强光致抗蚀剂的凸图像，其中此凸图像具有第一尺寸的特征；以及用酸性水溶液接触此凸图像足够时间，以有效地将凸图像的第一尺寸降到第二尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 化学 增强 光致抗蚀剂 分辨率 方法 | ||
【主权项】：
1.一种提高化学增强光致抗蚀剂分辨率的方法，此方法包括：在基片上形成化学增强光致抗蚀剂的凸图像，其中此凸图像含有具有第一尺寸的特征；以及用酸性水溶液接触此凸图像足够时间，以有效地将凸图像的第一尺寸降低到第二尺寸。
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