[发明专利]制造抗反射涂层基片的方法无效
| 申请号： | 03127460.9 | 申请日： | 2003-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN1484045A | 公开（公告）日： | 2004-03-24 |
| 发明（设计）人： | 浅川勉;松本研二;原田高志;中山恭司 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;C23C14/08;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 柳春琦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及制造抗反射涂层基片，其包括透明基片(1)和在透明基片上形成的抗反射膜，抗反射膜由多层膜制成，所述多层膜具有按下列顺序相继形成在透明基片上的下列各层：中等折射指数层(2)、高折射指数层(3)和低折射指数层(4)。中等折射指数层由含有硅、锡和氧的材料制成，高折射指数层由含有氧和至少一种选自钛、铌、钽和铪的元素的材料制成。低折射指数层由含有硅和氧的材料制成。抗反射膜用一种在线溅射仪器，通过相继层积这些层而形成。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 反射 涂层 方法 | ||
【主权项】：
1、一种制造抗反射涂层基片的方法，该抗反射涂层基片包括透明基片(1)和在该透明基片上形成的抗反射膜，抗反射膜包括多层膜，该多层膜含有按下列顺序相继形成在透明基片上的下列各层：中等折射指数层(2)、高折射指数层(3)和低折射指数层(4)，中等折射指数层由含有硅、锡和氧的材料制成，高折射指数层由含有氧和至少一种选自钛、铌、钽和铪的元素的材料制成，低折射指数层由含有硅和氧的材料制成，该抗反射膜是通过采用在线溅射仪器相继层积这些层而形成的。
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