[发明专利]有模拟电容器的半导体器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 03128594.5 申请日: 2003-03-21
公开(公告)号: CN1453875A 公开(公告)日: 2003-11-05
发明(设计)人: 朴相勋;李基永 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/822
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 李晓舒,魏晓刚
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明公开了一种有模拟电容器的半导体器件及其制造方法。半导体器件包括形成在半导体衬底预定区的底板电极,以及其上的具有由底板电极重叠的区域的上板电极。用金属化合物形成上和底板电极。电容器介电层夹在底和上板电极之间。底和上电极插塞通过层间介电层连接到底和上板电极。按本发明方法,在半导体衬底预定区形成底板电极。形成上板电极以具有由底板电极重叠的区域,并形成夹在底和上板电极之间的电容器介电层。在形成有上板电极的半导体衬底的整个表面形成层间介电层。形成通过层间介电层连接到底和上板电极的底和上电极插塞。用金属化合物形成底和上板电极。
搜索关键词: 模拟 电容器 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体器件,包括:底板电极,设置在半导体衬底的预定区域上;上板电极,被部分底板电极重叠;电容器介电层,设置在底板电极与上板电极之间;形成在上板电极和底板电极上的层间介电层;以及底电极插塞和上电极插塞,它们通过层间介电层分别连接到底板电极和上板电极,其中,上板电极和底板电极用金属化合物形成。
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