[发明专利]光刻装置和器件的制作方法有效
| 申请号： | 03128643.7 | 申请日： | 2003-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN1448790A | 公开（公告）日： | 2003-10-15 |
| 发明（设计）人： | L·P·巴克尔;J·荣克尔斯;A·J·J·范迪塞尔东克;M·M·T·M·迪里希斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维尔*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用来提供穿过屏蔽的一开口的可控开孔使由装置一部分发出的辐射脉冲能够射向装置的另一部分，其中该屏蔽将装置隔成个两部分。该可控开孔关闭在辐射脉冲间的开口以将第一部分和第二部分间的气体流减至最小。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投射装置，包括：一辐射系统，用来提供辐射的脉冲投射束；一支承结构，用来支撑图案化装置，该图案化装置用于依照所需图案对投射束形成图案；一基片台，用来固定基片；一投射系统，用来将形成图案的射束投射在基片的靶区上；其特征在于，所述装置还包括：一屏蔽，用来阻止气体和/或颗粒流从所述装置的第一部分流向所述装置的第二部分，所述屏蔽包括一可控开孔；一用来操作所述可控开孔的控制器，该控制器用于与所述脉冲束同步来打开和关闭所述可控开孔，以允许所述辐射束的其中一个脉冲通路穿过所述屏蔽。
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