[发明专利]溅射装置及其电极和该电极的制造方法无效
| 申请号： | 03128660.7 | 申请日： | 2003-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN1445811A | 公开（公告）日： | 2003-10-01 |
| 发明（设计）人： | 申在光;金圣九;朴荣奎;严显镒 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H01J23/02 | 分类号： | H01J23/02;H01J9/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李晓舒,魏晓刚 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种溅射装置及其电极和该电极的制造方法。该电极为旋转式磁控管套磁控管型(RMIM)电极。RMIM电极包括：磁体单元，包括位于中央的柱形磁体和多个围绕柱形磁体的环形磁体；以及驱动单元，支承和离轴旋转磁体单元。在磁体单元中，相邻磁体有相反的磁化方向，具有小直径的环形磁体位于具有大直径的环形磁体内侧。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 装置 及其 电极 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种旋转式磁控管套磁控管型(RMIM)电极，包括：磁体单元，其包括位于中央的柱形磁体和多个围绕柱形磁体的环形磁体；以及驱动单元，其支承和离轴旋转磁体单元，其中，在磁体单元中，相邻磁体有相反的磁化方向，且具有小直径的环形磁体位于具有大直径的环形磁体内。
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