[发明专利]用加热化学气体产生的雾状化学剂处理基片的方法及系统

摘要

本发明是通过使用加热化学气体而生成的雾状化学剂来进行基片清洗的一个系统，尤其适用于半导体硅片与平板显示器的清洗，而这种雾状化学剂则是由加热化学气体而产生的。这种不同的被加热的雾状化学剂，依不同的工艺程序经加压后，连续地进入处理容器内，这些微小的化学物质经加热加压后，渗透到复杂的基片表层上，形成一个有效的工业处理薄膜。该装置是由一种能拒腐于所有典型化学剂及气体的材料构成。它具有使雾状化学剂及气体不断循环以达到均匀处理内部基片的功能。由于基片工业处理容器的最小化设计而节约化学液与去离子水的消耗，同时成功实现最优化基片的清洁与祛污功能，同时增强基片化学工艺处理的均匀性和产量。

主权项

1.用加热化学气体产生的雾状化学剂处理基片的方法，包括如下步骤：在容器中安装基片；关闭容器并保持不泄露一定压力的气体；流入热氮气来等温；在容器内流入一种雾状化学剂，它是由加热的化学气体产生的；在容器内循环雾状化学剂；用去离子水清洗基片；在容器内压入一种叫异丙基酒精的温雾状溶液，以此来祛除基片上大多数的去离子水；加入热氮气来彻底干燥基片和容器。