[发明专利]静态型半导体存储器无效

专利信息
申请号: 03130721.3 申请日: 2003-05-07
公开(公告)号: CN1477713A 公开(公告)日: 2004-02-25
发明(设计)人: 塚本康正;新居浩二 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L27/11 分类号: H01L27/11
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘宗杰;梁永
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: SRAM具备:在N阱区上形成的第1和第2存取PMOS晶体管(P1、P2);在P阱区上形成的第1和第2驱动NMOS晶体管(N1、N2);字线;以及第1和第2位线。使有源区(2a~2d)在同一方向上延伸,使形成各MOS晶体管的栅的多晶硅布线(3a~3d)在同一方向上延伸,用第1金属布线(5c、5d)分别连接第1和第2存取PMOS晶体管(P1、P2)的漏以及第1和第2驱动NMOS晶体管(N1、N2)的漏,而不使形成第1和第2驱动NMOS晶体管的栅的多晶硅布线(3b、3d)介于它们之间。
搜索关键词: 静态 半导体 存储器
【主权项】:
1.一种静态型半导体存储器,其特征在于:具备:第1及第2位线;字线;第1导电型的第1及第2存取MOS晶体管,各自的源分别与上述第1及第2位线连接,各自的栅共同地与上述字线连接;以及与上述第1导电型不同的第2导电型的第1及第2驱动MOS晶体管,对各自的源施加接地电位,各自的漏分别与上述第1及第2存取MOS晶体管的漏连接,各自的栅分别与上述第2及第1存取MOS晶体管的漏连接,用金属布线连接上述第1存取MOS晶体管的漏和上述第1驱动MOS晶体管的漏,而不使上述第2驱动MOS晶体管的栅介于其间,用金属布线连接上述第2存取MOS晶体管的漏和上述第2驱动MOS晶体管的漏,而不使上述第1驱动MOS晶体管的栅介于其间。
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