[发明专利]光干涉式显示单元的制造方法无效
| 申请号： | 03130950.X | 申请日： | 2003-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN1549042A | 公开（公告）日： | 2004-11-24 |
| 发明（设计）人： | 林文坚 | 申请（专利权）人： | 元太科技工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/21 | 分类号： | G02F1/21;G02F1/03;G02F1/07;G02B26/06;G03F7/00;H01L21/3205 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 潘培坤;楼仙英 |
| 地址： | 台湾*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光干涉式显示面板的制造方法，依序形成第一电极与牺牲层于基材上，再在电极与牺牲层中形成开口。接着，在牺牲层上旋涂一第一光阻层并填满开口。以第一微影制造工序图案化第一光阻层而定义出支撑物及支撑物的支撑臂的长短。接着，旋涂至少一第二光阻层于第一光阻层及牺牲层上，以第二微影制造工序图案化第二光阻层形成至少一第二支撑臂。在牺牲层及支撑物上方形成第二电极，一热制造工序使第一与第二支撑臂因应力而产生位移，以改变第一电极与第二电极间的距离。最后，移除牺牲层而得到光干涉式显示单元。 | ||
| 搜索关键词： | 干涉 显示 单元 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光干涉式显示单元的制造方法，适用于一基材上，该方法至少包含：形成一第一电极于该基材上；形成一牺牲层于该第一电极上；形成至少二开口于牺牲层及该第一电极内并定义出该光干涉式显示单元的位置；形成一第一感光材质层填满该开口并覆盖该牺牲层；图案化该第一感光材质层以在每一该开口内形成支柱及在该支柱上形成至少一第一支撑层，其中该支柱及该第一支撑层形成一支撑物；形成至少一第二感光材质层于该牺牲层及该支撑物上；图案化该第二感光材质层以在该第一支撑层上形成一第二支撑层，其中该第一支撑层与该第二支撑层形成一支撑臂；形成一第二电极于该牺牲层及该支撑臂上；进行一热制造工序处理；以及移除该牺牲层。
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