[发明专利]发光设备、液晶显示设备及它们的制造方法有效

专利信息
申请号: 03131232.2 申请日: 2003-03-26
公开(公告)号: CN1450841A 公开(公告)日: 2003-10-22
发明(设计)人: 高山彻;山崎舜平 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H05B33/12 分类号: H05B33/12;G02F1/1368
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 傅康,梁永
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供了一种半导体设备的结构及其制造方法,该半导体设备即使在显示屏尺寸增加时也能实现低功耗。本发明形成一绝缘层,在绝缘层中形成隐埋互连(为Cu、Au、Ag、Ni、Cr、Pd、Rh、Sn、Pb或其合金)。进一步,在平面化绝缘层表面之后,在暴露部分中形成金属保护膜(Ti、TiN、Ta、TaN或类似物)。通过在发光设备或液晶显示设备的各种线(栅线、源线、电源线、公用线等等)的部分中使用隐埋互连,降低了线电阻。
搜索关键词: 发光 设备 液晶显示 它们 制造 方法
【主权项】:
1.一种发光设备包括:衬底,具有一个绝缘表面;具有透光性的第二衬底;像素区域,具有大量发光元件,该发光元件具有第一电极、位于第一电极上并与其相接触的包含有机化合物的层、和位于包含有机化合物的层上并与其相接触的第二电极;和驱动电路,具有薄膜晶体管;其中像素区域排列有隐埋互连制成的栅线、源线或电源线。
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