[发明专利]减少透镜像差与图案移位的光罩与方法

摘要

一种可减少透镜像差与图案移位的光罩，包括一透光基底与一遮光层，遮光层设置于透光基底上，具有一数组图案区与复数个辅助图案，辅助图案是设置于数组图案区内且其中各辅助图案与其上、下方的两数组图案等距，并使辅助图案的长度与数组图案的宽度相等。一种可减少透镜像差与图案移位的方法，包括下列步骤：提供一半导体基底，于该半导体基底上覆盖一光阻层，借由一光罩在光阻层中形成图案，各图案与其上、下方的两数组图案等距，并使图案的长度与数组图案的宽度相等，以图案化光阻为罩幕，进行一蚀刻步骤以在该半导体基底中形成一数组沟槽区。依照本发明的光罩与方法，可使数组图案间的关键尺寸获得较佳的一致性，且能有效减少图案移位的现象。

主权项

1.一种可减少透镜像差(lens aberration)与图案移位(patterndisplacement)的光罩，其特征在于：所述光罩包括：一透光基底；一遮光层，设置于该透光基底上，其中该遮光层具有一数组图案(array patterns)区与复数个辅助图案(assist patterns)，上述辅助图案是设置于该数组图案区内且其中各辅助图案与其上方及下方的两数组图案等距，并使上述辅助图案的长度与上述数组图案的宽度相等。