[发明专利]化学机械研磨后洗涤液组合物有效
| 申请号： | 03131434.1 | 申请日： | 2003-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN1458256A | 公开（公告）日： | 2003-11-26 |
| 发明（设计）人： | 阿部优美子;大和田拓央;石川典夫;青木秀充;富盛浩昭 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社;恩益禧电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D3/20 | 分类号： | C11D3/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种对化学机械研磨后的半导体基板的表面上附着的微小粒子和金属杂质的除去性优良、且不腐蚀金属配线材料的洗涤液。该化学机械研磨后洗涤液组合物的特征在于，含有一种或两种以上脂肪族多元羧酸类和从乙醛酸、抗坏血酸、葡萄糖、果糖、乳糖和甘露糖组成的组中选择的一种或两种以上，且pH不满3.0。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 洗涤液 组合 | ||
【主权项】：
1、一种化学机械研磨后洗涤液组合物，其特征在于，含有一种或两种以上脂肪族多元羧酸类和从乙醛酸、抗坏血酸、葡萄糖、果糖、乳糖和甘露糖组成的组中选择的一种或两种以上，且pH不满3.0。
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