[发明专利]多重抗反射层及其采用此种多重抗反射层的微影制造方法无效
| 申请号： | 03131458.9 | 申请日： | 2003-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN1548989A | 公开（公告）日： | 2004-11-24 |
| 发明（设计）人： | 曹兆玺 | 申请（专利权）人： | 旺宏电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是关于一种多重抗反射层及其采用此种多重抗反射层的微影制造方法，其中，该多重抗反射层是由至少两层的抗反射层夹着一层硬罩幕层所组成，其可在不受硬罩幕层厚度变化的影响下，使多重抗反射层达到降低反射率的效果。该多重抗反射层的微影制造方法，包括以下制程步骤：在一基底上形成一多重抗反射层，该多重抗反射层是由至少二抗反射层以及夹于该二抗反射层之间的一硬罩幕层所构成；在该二抗反射层上形成一光阻层；以及进行一曝光制程与一显影制程。本发明利用该多层接口形成多次相消性干涉，而可达到降低反射率的功效；其不需要严格限制硬罩幕层的厚度，即可利用简单制程获致低反射率的抗反射结构，而具有产业的利用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 多重 反射层 及其 采用 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种多重抗反射层，其特征在于其包括：至少二抗反射层，位于一基底上；以及一硬罩幕层，被夹在该至少二抗反射层之间。
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