[发明专利]耐熔微掩模法制备高温超导Josephson结的方法无效
| 申请号： | 03131541.0 | 申请日： | 2003-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN1461063A | 公开（公告）日： | 2003-12-10 |
| 发明（设计）人： | 许伟伟;吴培亨;杨森祖;吉争鸣;范世雄 | 申请（专利权）人： | 南京大学 |
| 主分类号： | H01L39/24 | 分类号： | H01L39/24;H01L39/22 |
| 代理公司： | 南京天翼专利代理有限责任公司 | 代理人： | 汤志武;王鹏翔 |
| 地址： | 210093*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 耐熔微掩模法制备高温超导Josephson结的方法，利用耐融微掩模法制备，选用常规或双晶或台阶基片，用原位制备法在基片上制备CeO2/YBCO双层膜，YBCO作为底层介质膜同时起到悬挂微掩模层的支撑作用，在上述双层膜上制备光刻胶掩模，曝光显影后得到微桥图形；用等离子刻蚀法将微桥区的CeO2膜刻去制备出CeO2掩模；用稀磷酸腐蚀微桥区部分的YBCO膜，使得底层的YBCO彻底去除干净；放入成膜系统中生长出所需要图形的高温超导薄膜，直接形成Josephson结。利用此方法可以避免刻蚀工艺对超导器件性能的影响，制备高质量的高温超导Josephson结。 | ||
| 搜索关键词： | 耐熔微掩模 法制 高温 超导 josephson 方法 | ||
【主权项】：
1、耐熔微掩模制备高温超导Josephson结的方法，其特征是利用耐融微掩模法制备，选用常规或双晶或台阶基片，用原位制备法在基片上制备CeO2/YBCO双层膜，YBCO作为底层介质膜同时起到悬挂微掩模层的支撑作用，CeO2薄膜是作为刻蚀YBCO膜时的掩摸层；在上述双层膜上制备光刻胶掩模，用原微桥的负版做掩模板，曝光显影后得到微桥图形；用等离子刻蚀法将微桥区的CeO2膜刻去制备出CeO2掩模；用稀磷酸腐蚀微桥区部分的YBCO膜，使得底层的YBCO彻底去除干净；放入成膜系统中生长出所需要图形的高温超导薄膜，直接形成Josephson结。
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